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          • 1Kg真空感應熔煉爐是真空冶金領域中應用*廣的設備之一。事實證明:宇航、導彈、火箭、原子能設備和電子...
          • 多功能粉體包覆磁控鍍...
            該設備主要?于粉體材料、顆粒材料的包覆制備(磁控濺射鍍膜、CVD、PECVD鍍膜)及熱處理等,?于改善粉體或顆粒的表?性能、分散性能、穩定性能,賦予其導電性、耐腐蝕性等新功能。
            四探針薄膜厚度測試儀
            四探針測試儀用于半導體、薄膜、導電涂層等材料的電學性能測試。四探針薄膜厚度測試儀核心作用是消除接觸電阻和引線電阻的影響,從而獲得更準確的測量結果
            旋轉粉末磁控濺射鍍膜...
            旋轉粉末磁控濺射鍍膜儀主要用于粉體材料、顆粒材料的包覆制備,用于改善粉體或顆粒的表面性能、分散性能、穩定性能,賦予其導電性、耐腐蝕性等新功能。
            桌面型雙靶磁控濺射鍍...
            本設備為雙靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備
          • 桌面型三源蒸發鍍膜儀
            熱蒸發鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發、氣態粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發過程中,材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結合能,從而轉變為氣態分子并從蒸發源表面逸出
            高真空三源熱蒸發鍍膜...
            三源高真空蒸發鍍膜儀應用領域:金屬和介電膜 ,薄膜傳感器的制造 ,光學元件 ,納米與微電子 ,太陽能電池等
            桌面型有機源蒸發鍍膜...
            熱蒸發鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發、氣態粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發過程中,材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結合能,從而轉變為氣態分子并從蒸發源表面逸出 。這些氣態粒子在輸運過程中基本上無碰撞地直線飛行到基底表面,并在那里凝聚形核生長成固相薄膜
            桌面型不銹鋼腔體熱蒸...
            熱蒸發鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發、氣態粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發過程中,材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結合能,從而轉變為氣態分子并從蒸發源表面逸出 。這些氣態粒子在輸運過程中基本上無碰撞地直線飛行到基底表面,并在那里凝聚形核生長成固相薄膜
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            非自耗型高真空電弧爐
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            1800度1Kg真空...
            1Kg真空感應熔煉爐是真空冶金領域中應用*廣的設備之一。事實證明:宇航、導彈、火箭、原子能設備和電子工業所需要的合金和特殊鋼
          • 換位自轉等離子鍍膜儀
            本型號等離子濺射儀,采用二級濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗,本設備配備換位自轉式樣品臺,用戶可以在觸控屏上實現一鍵換位,樣品臺可在兩個靶位自由切換,本設備體積小巧造型美觀功能強大,是實驗室鍍膜試驗的*佳選擇。
            三靶等離子濺射鍍膜儀...
            本型號小型等離子濺射儀,采用二級濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高溫,不易產生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統,全部觸摸屏操作,便于學習使用。本型號儀器還配有旋轉樣品臺,能夠有效的提升鍍膜的均勻性。(本設備配有旋轉加熱樣品臺,可以提升鍍膜的均勻性和薄膜的附著力)該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統,全部觸摸屏操作,便于學習使用。設備體積小巧造型美觀,是實驗室鍍膜試驗的*佳選擇。
            三靶等離子濺射鍍膜儀...
            本型號小型等離子濺射儀,采用二級濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高溫,不易產生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統,全部觸摸屏操作,便于學習使用。本型號儀器還配有旋轉樣品臺,能夠有效的提升鍍膜的均勻性。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統,全部觸摸屏操作,便于學習使用。設備體積小巧造型美觀,是實驗室鍍膜試驗的*佳選擇。
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          • 全自動加熱旋涂儀勻膠...
            可將液態或膠體材料涂覆于硅片、晶體、石英、陶瓷等基材形成薄膜,主要應用于光刻膠旋涂、生物培養基制備、聚合物薄膜的溶膠-凝膠法制備等場景
            四噴頭超聲波勻膠機旋...
            四噴頭超聲波勻膠機是一種面向未來的gaoduan微納加工設備。它解決了傳統勻膠技術在三維、異質集成和昂貴材料應用中的根本性瓶頸,是推動先進半導體、MEMS和下一代顯示技術發展的關鍵工藝裝備之一。
            全自動勻膠機旋涂儀
            全自動勻膠機旋涂儀是一種基于離心力原理的精密涂覆設備,通過程序化控制基片旋轉速度、加速度和時間,實現液體材料(如光刻膠、PDMS膠等)在基片表面的均勻分布,形成高質量薄膜或涂層
            光刻膠烤膠機
            光刻膠烤膠機在半導體及相關領域的光刻工藝中,主要用于光刻膠的烘烤和固化,確保圖案轉移的**性和工藝穩定性
          • 桌面平板式涂布機
            桌面平板式涂布機廣泛用于各種高溫涂膜研究,例如陶瓷類薄膜、晶體類薄膜、電池材料薄膜、特殊納米薄膜;能夠適應未來高溫條件下成膜的科學技術的發展
            卷繞型狹縫涂布機
            全自動卷繞涂布機主要用于實驗室涂布液體或膠體膜。該設備采用無級變速電機**控制涂膜速度,從而達到使樣品勻速前進而均勻涂膜的目的
            1000mm真空加熱...
            涂布機是一種廣泛應用于制造業中的機器設備,主要用于薄膜、紙張、布料等材料的表面涂布工藝生產
            間歇式鋰電池涂布機
            間歇式鋰電池涂布機本著方便研究者使用,同時滿足涂布精度和一致性無異于生產的要求設計,烘干效果優異,是鋰離子電池、超級電容、鎳電池以及其他二次電池研發的理想之選
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