小型鍍膜儀產品學習

此次培訓以蒸發鍍膜儀、等離子濺射鍍膜儀、以及二合一鍍膜儀三種產品為主要學習內容。

蒸發鍍膜儀

真空蒸鍍是將鍍料在真空中加熱、蒸發，使蒸發的原子或原子團在溫度較低的基板上析出形成薄膜。蒸發熱源采用電阻加熱法，電阻加熱一般用于熔點低于1500℃的鍍料，原理類似白熾燈，蒸發源的熔點需要很高，使用方便，結構簡單，造價低廉。蒸發鍍膜操作過程包括三步，即制造真空、鍍膜操作、以及破壞真空。

小型等離子濺射鍍膜儀

我們的小型等離子濺射鍍膜設備屬于zui簡單的直流二極濺射。

等離子鍍膜具有結構簡單，控制不困難，操作重復性好（控制參數少）的優點。但它的沉積速率不高，能量低，一般只有濺射金銀銅等效率比較好。小型等離子濺射鍍膜儀的鍍膜過程也是三步，即制造真空、鍍膜操作、以及破壞真空。

二合一鍍膜儀

二合一鍍膜儀是將小型蒸發鍍膜儀和小型等離子濺射鍍膜儀整合在一起的一臺設備。不但可以用等離子濺射的方式鍍金屬膜，也可以用蒸發的方式得到碳或其他金屬單質的薄膜。等離子濺射和蒸發二合一鍍膜儀能夠滿足掃描電子顯微鏡樣品表面噴金、蒸金或蒸碳過程使用以及非導體材料實驗電極的制作，也可以用于材料研究中各種新材料性能的實驗。二合一鍍膜儀操作過程：制造真空、鍍膜操作、以及破壞真空。

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