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PECVD氣相沉積系統

PECVD化學氣相沉積... PECVD化學氣相沉積系統采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，能夠利用高能量等離子體促進反應過程，有效提升反應速度，降低...
PEALD等離子增強原... 等離子增強原子層沉積（PEALD）系統是一種先進的薄膜沉積技術，結合了等離子體和原子層沉積（ALD）的優點，以實現更高的...
等離子增強化學氣相沉積... 化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，基本溫度低，沉積速率快，在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉...
等離子體增強型化學氣相... 化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，能夠利用高能量等離子體促進反應過程，有效提升反應速度，降低反應溫度。適用...
CVD化學氣相沉積系統 CVD氣相沉積系統廣泛應用于材料科學和工程領域，用于制備各種功能性薄膜，如金屬薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳納米管等。...
PECVD氣相沉積 PECVD氣相沉積在超大規模集成電路、光電器件、MEMS等領域具有廣泛的應用
雙溫區CVD化學氣相沉... CVD（化學氣相沉積）氣相沉積系統是一種常用的薄膜制備技術，通過在高溫下將氣體反應物質與基底表面反應，形成薄膜
三溫區PECVD石墨烯... 三溫區PECVD廣泛用于石墨烯制備，顆粒包覆等科學實驗上
熱陰極直流等離子體化學... 熱陰極直流等離子體化學氣相沉積設備（DCCVD）是在常規冷陰極輝光放電基礎上發展起來的，主要用于金剛石單晶或多晶膜的沉積...
卷對卷PECVD石墨烯... 卷對卷PECVD石墨烯制備設備主要應用于計算機和智能手機屏幕，超輕、柔性的太陽能電池，以及新型的發光設備和其他薄膜電子產...
PECVD-R?旋轉等... 本產品為PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備。PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備十分適合在氣氛保護的環境下連續...
PE-HPCVD等離子... PE-HPCVD等離子增強物理化學氣相沉積由一臺雙溫區管式爐，一套鎢絲蒸發源，一套等離子發生裝置以及一套質量流量計組成。...
PECVD鍍膜儀 CY-PECVD-450化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，能夠利用高能量等離子體促進反應過程，有效提升反應...
單溫區旋轉PECVD石... 單溫區旋轉PECVD，安裝有真空自動投料器，爐管尾部預留KF40接口可以連接收料罐。投料器采用螺桿進料，可以以額定的速率...
卷對卷式PECVD 卷對卷式PECVD是等離子增強型化學氣相沉積設備（PECVD），并加裝了收放卷裝置。本設備可用于線材的連續化熱處理工藝中...
等離子增強CVD系統等離子增強CVD系統由等離子發生器，三溫區管式爐、單溫區管式爐、射頻電源、真空系統組成。等離子增強CVD系統為了使化學反...
等離子增強型CVD系統 CY-PECVD50R-1200-Q是一款等離子增強型CVD系統。此系統由150W射頻電源、單溫區管式爐、3通道質子流量...

豫公網安備 41019702002438號