多功能鍍膜儀的基本原理與應用

多功能鍍膜儀是將蒸發鍍膜、真空蒸碳以及等離子濺射鍍膜三種功能整合在一起的設備，可以滿足客戶不同的實驗需求。不但可以用等離子濺射的方式鍍金屬膜，也可以用蒸發的方式得到碳或其他金屬單質的薄膜。

蒸發鍍膜：真空蒸鍍是將鍍料在真空中加熱、蒸發，使蒸發的原子或原子團在溫度較低的基板上析出形成薄膜。

真空蒸碳在原理上也是屬于真空蒸發鍍膜，需要高真空環境，主要用于給SEM（掃描電子顯微鏡）樣品鍍導電膜。

等離子濺射鍍膜屬于直流二極濺射，由于等離子濺射是在低氣壓下進行的，因此薄膜純度高，粘著力強。又由于是低能濺射，故可在熔點低的有機物上沉積薄膜。

多功能鍍膜儀的基本操作流程：放置樣品、安裝裝置、接線、定時、抽真空、調節電流、開始計時、鍍膜完成。由于多功能鍍膜儀涉及多種不同的鍍膜方式，使用不同的功能時需要用戶自行接線。

多功能鍍膜儀可進行真空蒸碳、真空鍍膜和離子濺射，它也可以在高純氬氣的保護之下進行多種離子處理。用本設備處理的試樣既可用于樣品的外貌觀察又可以進行成分分析，尤其是成分的定量分析更為適宜。