PECVD系統和濺射鍍膜

太陽能電池是通過光電效應或者光化學效應直接把光能轉化成電能的裝置。

在高于某特定頻率的電磁波照射下，某些物質內部的電子會被光子激發出來而形成電流，即光生電。

太陽能電池工作原理的基礎是半導體PN結的光生伏特效應。所謂光生伏特效應就是當物體受到光照時，物體內的電荷分布狀態發生變化而產生電動勢和電流的一種效應。總之，太陽的照射使光伏板產生了電壓。

所謂HIT結構就是在晶體硅片上沉積一層非摻雜（本征）氫化非晶硅薄膜和一層與晶體硅摻雜種類相反的摻雜氫化非晶硅薄膜，采取該工藝措施后，改善了PN結的性能。

太陽能電池需要用到的鍍膜技術：PECVD系統和濺射鍍膜。

PECVD：用于石墨烯制備、硫化物制備、納米材料制備等多種試驗場所。可在片狀或類似形狀樣品表面沉積SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜，并可沉積p型、n型摻雜薄膜。沉積的薄膜具有良好的均勻性、致密性、粘附性、絕緣性。廣泛應用于刀具、高精模具、硬質涂層等領域。

磁控濺射是PVD的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點。