產(chǎn)品分類
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
新聞詳情
磁控濺射鍍膜儀的主要功能
日期：2025-11-30 15:22
瀏覽次數(shù)：669
摘要：
磁控濺射鍍膜儀的主要功能
磁控濺射鍍膜儀是一種用于化學(xué)、材料科學(xué)、冶金工程技術(shù)、物理學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器，于2006年12月30日啟用。
磁控濺射鍍膜儀是一種用于化學(xué)、材料科學(xué)、冶金工程技術(shù)、物理學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器，于2006年12月30日啟用。
技術(shù)指標(biāo)
1、磁控濺射鍍膜儀主真空室的本底真空優(yōu)于2×10－8Torr；2、四英寸的基片范圍內(nèi)薄膜厚度均勻性優(yōu)于±2％；3、可以濺射磁性和非磁性金屬、進(jìn)行直流和射頻濺射；4、基片可以加熱（800℃）、冷卻（水冷）；5、全自動(dòng)控制；6、18英寸主濺射室；7、高真空泵抽系統(tǒng)；8、超高真空磁控濺射靶；直流/射頻電源；9、4英寸樣品臺(tái)；10、PhaseII-J控制系統(tǒng)。
主要功能
磁控濺射鍍膜儀納米磁性薄膜制備設(shè)備，可以制備納米磁性薄膜，能加熱，共五個(gè)靶位。
尊敬的客戶：
本公司還有PECVD系統(tǒng)、快速退火爐、旋轉(zhuǎn)勻膠機(jī)等產(chǎn)品，您可以通過網(wǎng)頁撥打本公司的服務(wù)電話了解更多產(chǎn)品的詳細(xì)信息，至善至美的服務(wù)是我們的追求，歡迎新老客戶放心選購(gòu)自己心儀產(chǎn)品，我們將竭誠(chéng)為您服務(wù)！
