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        產(chǎn)品詳情
        • 產(chǎn)品名稱:三靶磁控濺射鍍膜儀

        • 產(chǎn)品型號(hào):CY-MSH300-III-DCDCRF-SS
        • 產(chǎn)品廠商:成越科儀
        • 產(chǎn)品文檔:
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        簡(jiǎn)單介紹:
        產(chǎn)品簡(jiǎn)介:CY-600-3HD三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研制開發(fā)的一款性價(jià)比較高的磁控濺射鍍膜儀,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。?
        詳情介紹:

        產(chǎn)品簡(jiǎn)介:CY-MSH300-III-DCDCRF-SS三靶磁控濺射儀是我公司自主研制開發(fā)的一款性價(jià)比較高的磁控濺射鍍膜儀,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。 

        技術(shù)參數(shù):

        項(xiàng)目

        明細(xì)

        產(chǎn)品型號(hào)

        CY-MSH300-III-DCDCRF-SS

        供電電壓

        AC220V,50Hz

        整機(jī)功率

        6KW

        系統(tǒng)真空

        5×10-4Pa

        樣品臺(tái)

        外形尺寸

        φ150mm

        加熱溫度

        500℃

        控溫精度

        ±1

        可調(diào)轉(zhuǎn)速

        20rpm

        磁控靶槍

        靶材尺寸

        直徑Φ50.8mm,厚度3mm

        冷卻模式

        循環(huán)水冷

        水流大小

        不小于10L/Min

        真空腔體

        腔體尺寸

        直徑φ300mm,高度500mm

        腔體材質(zhì)

        SUU304不銹鋼

        觀察窗口

        直徑φ100mm

        開啟方式

        頂開式

        氣體控制

        1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量,量程為:200SCCM

        真空系統(tǒng)

        配分子泵系統(tǒng)1套,氣體抽速600L/S

        膜厚測(cè)量

        可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ?

        濺射電源

        直流電源500W*2,射頻電源500W

        控制系統(tǒng)

        CYKY自研專業(yè)級(jí)控制系統(tǒng)

        設(shè)備尺寸

        600mm × 650mm × 1280mm

        設(shè)備重量

        350kg

         

        豫公網(wǎng)安備 41019702002438號(hào)