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        產(chǎn)品詳情
        • 產(chǎn)品名稱(chēng):四靶磁控濺射鍍膜儀帶過(guò)渡倉(cāng)

        • 產(chǎn)品型號(hào):CY-MSH500G-IIII-DCDCDCRF-SS
        • 產(chǎn)品廠商:成越科儀
        • 產(chǎn)品文檔:
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        簡(jiǎn)單介紹:
        四靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
        詳情介紹:

        四靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性?xún)r(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸2英寸3英寸4英寸可以選擇,客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購(gòu);所配電源為500W直流電源和500W射頻電源,直流電源可用于金屬薄膜的制備,射頻電源可用于非金屬膜的制備,四個(gè)靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。若客戶有其他鍍膜需要,可以定制其他射頻電源和脈沖電源,各型電源均有300W到1000W多種規(guī)格可選.

        設(shè)備具有主腔室和過(guò)渡艙兩部分,過(guò)渡艙配有磁力推桿,兩個(gè)艙室之間裝有真空閘板閥;用戶可以在主腔室進(jìn)行濺射工作的同時(shí),在過(guò)渡艙裝填樣品,并進(jìn)行真空預(yù)抽,待主腔室濺射完成后即可將樣品通過(guò)磁力推桿推入主腔室的樣品臺(tái)。這樣的設(shè)計(jì)能夠減少主腔室抽放真空的次數(shù),不僅能有效節(jié)省時(shí)間,更能保證更好的本地真空,有效提高鍍膜質(zhì)量
        四靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該四靶磁控濺射鍍膜儀與同類(lèi)設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備高真空環(huán)境,整個(gè)蒸發(fā)過(guò)程在高真空環(huán)境中進(jìn)行,確保了蒸發(fā)原子或分子直接到達(dá)基板,避免了空氣中雜質(zhì)的污染,提高了薄膜的質(zhì)量。高真空條件還有助于減少蒸發(fā)材料的氧化,進(jìn)一步提升了薄膜的純度和性能。
        技術(shù)參數(shù):

        產(chǎn)品名稱(chēng)

        四靶磁控濺射鍍膜儀(直流電源+射頻電源)

        產(chǎn)品型號(hào)

        CY-MSH500X-IIII-DCDCDCRF-SS

        臺(tái)

        外形尺寸

        φ150mm

        控溫精度

        ±1

        加熱范圍

        室溫~900

        可調(diào)轉(zhuǎn)速

        1-20rpm 可調(diào)

         

         

        濺射方向

        向下濺射

        擺頭靶角度可調(diào)范圍

        -45~45度,配備氣動(dòng)快門(mén)

        靶材尺寸

        直徑4英寸,厚度≦3mm

        絕緣電壓

        >2000V

        數(shù)量

        4英寸擺頭3個(gè);4英寸直靶一個(gè)

        冷卻方式

        水冷

         

        腔體類(lèi)型

        D型腔

        腔體尺寸

        Φ500mm × 500mm

        腔體材料

        304 不銹鋼

        觀察窗口

        石英窗口,直徑φ100mm

        開(kāi)啟方式

        前門(mén)開(kāi)啟

        流量控制

        3路質(zhì)量流量計(jì)

        量程 0500SCCM

        量程 0100SCCM

        量程 020SCCM 

        雙極脈沖磁控濺射電源

        輸入電壓 380VAC±10%,三相四線制,50-60Hz

        輸出功率 0-5KW

        輸出電壓 0-1000V

        輸出電流 *大9A(恒功率時(shí))

        輸出頻率 1KHz -150KHz

        輸出特性 恒流/恒功率/恒壓

        冷卻方式 風(fēng)冷

        通訊方式 0-5V0-10V模擬量RS-485

        負(fù)載持續(xù)率 100%

        數(shù)量 1臺(tái)

        電源功率

        1000W

        功率輸出范圍

        0W-1000W

        *大輸出功率

        1000W

        *大反射功率

        130W

        射頻頻率

        13.56MHz+/-0.005%穩(wěn)定性

        數(shù)量

        1臺(tái)

         

        功率 

        1000W 

        數(shù)量

        2臺(tái)

        分子泵抽速

        1200L/S

        冷卻方式

        水冷

        真空度

        9.0×10??Pa

        前級(jí)泵抽氣速率

        4L/S

        復(fù)合真空計(jì)

        量程 10??Pa ~ 10?Pa

        數(shù)量

        1

        真空閥

        電控氣動(dòng)閥

        過(guò)渡艙

        腔體尺寸要適用于*大6英寸的晶圓

        配備分子泵組:

        前級(jí)泵:VRD-4,抽速1.1L/s

        分子泵:日本TG60F,抽速60L/s

        膜厚測(cè)量?jī)x

        數(shù)量:1

        通道數(shù):?jiǎn)瓮ǖ?/span>

        測(cè)量精度:1?

        標(biāo)準(zhǔn)傳感器石英晶體:6MHz

        適用石英晶體尺寸:φ14mm

        水冷機(jī)

        溫度控制范圍:1025

        額定制冷量:0.75kW

        流量:10L/min

        冷卻水:純凈水

        空壓機(jī)

        轉(zhuǎn)速:1380 轉(zhuǎn)/分鐘

        流量:40 /分鐘

        額定排氣壓力:0.7 兆帕

        控制系統(tǒng)

        PLC + 14.3 英寸觸摸屏

        豫公網(wǎng)安備 41019702002438號(hào)