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雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀主要特點：
1、配置兩個靶槍，一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜，應用廣泛。
3、體積小，操作簡便。
雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀技術規格：
項目
明細
產品型號
CY-MSH325- II-DCRF-SS
供電電壓
AC220V，50Hz
整機功率
4KW
系統真空
≦5×10-4Pa
樣品臺
外形尺寸
φ140mm
加熱溫度
≦500℃
控溫精度
±1℃
可調轉速
≦20rpm
磁控靶槍
靶材尺寸
直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm
冷卻模式
循環水冷
水流大小
不小于10L/Min
真空腔體
腔體尺寸
直徑φ325mm，高度500mm
腔體材質
SUU304不銹鋼
觀察窗口
直徑φ100mm
開啟方式
頂開式
氣體控制
1路質量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM
真空系統
配分子泵系統1套，氣體抽速600L/S
膜厚測量
可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ?
濺射電源
直流電源500W,射頻電源500W
控制系統
CYKY自研專業級控制系統
設備尺寸
600mm
× 650mm × 1280mm
設備重量
350kg
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