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產(chǎn)品名稱：雙靶磁控濺射鍍膜儀
產(chǎn)品型號(hào)：CY-MSH300-II-RF?DC-SS
產(chǎn)品廠商：成越科儀
產(chǎn)品文檔：

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簡(jiǎn)單介紹：

雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的小型實(shí)驗(yàn)室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn)，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作。與同類設(shè)備相比，這款雙靶磁控濺射鍍膜儀不僅應(yīng)用廣泛，且體積小便于操作，是一款實(shí)驗(yàn)室制備薄膜的理想設(shè)備。

詳情介紹：

技術(shù)參數(shù)：

項(xiàng)目

明細(xì)

產(chǎn)品型號(hào)
CY-MSH300-II-RFDC-SS

供電電壓

AC220V，50Hz

整機(jī)功率

3KW

極限真空度

10^-6torr

載樣臺(tái)參數(shù)

尺寸

φ140mm

加熱溫度

*高500℃

控溫精度

±1℃

轉(zhuǎn)速

1-20rpm可調(diào)

磁控濺射頭參數(shù)

數(shù)量

2個(gè)2”磁控濺射頭

冷卻方式

水冷，所需流速10L/min

水冷機(jī)規(guī)格

16L/min流速的循環(huán)水冷機(jī)

真空腔體

腔體尺寸

φ300mm X 300mm H

腔體材料

不銹鋼

觀察窗口

φ100mm

開啟方式

上頂開式，便于更換靶材

氣體流量控制器

4路分別通N₂，Ar，O₂，空氣；量程均為0-500sccm

真空泵

配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S

膜厚儀

石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀一臺(tái)，分辨率0.10 ?

濺射電源

直流電源一臺(tái)，500W，適用于制備金屬膜

射頻電源一臺(tái)，300W，適用于非金屬鍍膜

操作方式

面板按鈕操作

整機(jī)尺寸

1400mm X 750mm X 1300mm

整機(jī)重量

300kg

相關(guān)產(chǎn)品

項(xiàng)目	明細(xì)
產(chǎn)品型號(hào)	CY-MSH300-II-RFDC-SS
供電電壓	AC220V，50Hz
整機(jī)功率	3KW
極限真空度	10^-6torr
載樣臺(tái)參數(shù)	尺寸	φ140mm
	加熱溫度	*高500℃
	控溫精度	±1℃
	轉(zhuǎn)速	1-20rpm可調(diào)
磁控濺射頭參數(shù)	數(shù)量	2個(gè)2”磁控濺射頭
	冷卻方式	水冷，所需流速10L/min
	水冷機(jī)規(guī)格	16L/min流速的循環(huán)水冷機(jī)
真空腔體	腔體尺寸	φ300mm X 300mm H
	腔體材料	不銹鋼
	觀察窗口	φ100mm
	開啟方式	上頂開式，便于更換靶材
氣體流量控制器	4路分別通N₂，Ar，O₂，空氣；量程均為0-500sccm
真空泵	配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S
膜厚儀	石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀一臺(tái)，分辨率0.10 ?
濺射電源	直流電源一臺(tái)，500W，適用于制備金屬膜射頻電源一臺(tái)，300W，適用于非金屬鍍膜
操作方式	面板按鈕操作
整機(jī)尺寸	1400mm X 750mm X 1300mm
整機(jī)重量	300kg

產(chǎn)品名稱：雙靶磁控濺射鍍膜儀

技術(shù)參數(shù)：