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產(chǎn)品名稱：分體式單靶磁控鍍膜儀
產(chǎn)品型號(hào)：CY-MSH270-I-RF-Q
產(chǎn)品廠商：成越科儀
產(chǎn)品文檔：

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簡(jiǎn)單介紹：

本設(shè)備為單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。

詳情介紹：

本設(shè)備為單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。
本套配置采用石英真空腔體，鍍膜過程全向可視，便于實(shí)驗(yàn)的觀察記錄，腔體設(shè)計(jì)開啟方便，易于清理，十分適合實(shí)驗(yàn)室使用。同時(shí)設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺(tái)，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機(jī)采用模塊化設(shè)計(jì)，操作邏輯簡(jiǎn)單，操作界面直觀，利于上手。
設(shè)備的真空獲得系統(tǒng)采用兩級(jí)真空泵組，前級(jí)泵為大抽速機(jī)械泵，有效縮從常壓至低真空的時(shí)間，主泵為渦輪分子泵，抽速高，真空獲取速度更快。整體真空獲得系統(tǒng)干凈快速。

技術(shù)參數(shù)：

項(xiàng)目

明細(xì)

產(chǎn)品型號(hào)

CY-MSH270-I-RF-Q

供電電壓

AC220V，50Hz

整機(jī)功率

3KW

系統(tǒng)真空

≦5×10^-4Pa

樣品臺(tái)

尺寸

150mm

加熱溫度

≤500℃

旋轉(zhuǎn)速度

1-20r/min

控溫精度

±1℃

磁控濺射頭

數(shù)量

2英寸 x1

冷卻方式

水冷

真空腔體

腔體尺寸

φ270mm X 200mm

觀察窗口

全向可視

開啟方式

頂蓋拆卸式

腔體材料

高純石英

真空系統(tǒng)

機(jī)械泵

CY240

抽氣接口

KF16

抽氣速率

1.1L/s

分子泵

CY600

抽氣接口

KF40

抽氣速率

600L/s

排氣接口

KF40

真空測(cè)量

電阻規(guī)+電離規(guī)

供電電源

AC;220V 50/60Hz

氣體控制

1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量，量程為:200SCCM

膜厚測(cè)量

可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ?

控制系統(tǒng)

CYKY自研專業(yè)級(jí)控制系統(tǒng)

電源配置

直流電源數(shù)量

1臺(tái)

輸出功率

≤500W

輸出電壓

≤600V

響應(yīng)時(shí)間

＜5ms

射頻電源數(shù)量

1臺(tái)

輸出功率

≤1000W

功率穩(wěn)定度

≤5W

測(cè)量精度

±0.5%

測(cè)量速度

100~1000ms

測(cè)量上限

50000

相關(guān)產(chǎn)品

項(xiàng)目	明細(xì)
產(chǎn)品型號(hào)	CY-MSH270-I-RF-Q
供電電壓	AC220V，50Hz
整機(jī)功率	3KW
系統(tǒng)真空	≦5×10^-4Pa
樣品臺(tái)	尺寸	150mm
	加熱溫度	≤500℃
	旋轉(zhuǎn)速度	1-20r/min
	控溫精度	±1℃
磁控濺射頭	數(shù)量	2英寸 x1
磁控濺射頭	冷卻方式	水冷
真空腔體	腔體尺寸	φ270mm X 200mm
	觀察窗口	全向可視
	開啟方式	頂蓋拆卸式
	腔體材料	高純石英
真空系統(tǒng)	機(jī)械泵	CY240
	抽氣接口	KF16
	抽氣速率	1.1L/s
	分子泵	CY600
	抽氣接口	KF40
	抽氣速率	600L/s
	排氣接口	KF40
	真空測(cè)量	電阻規(guī)+電離規(guī)
	供電電源	AC;220V 50/60Hz
氣體控制	1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量，量程為:200SCCM
膜厚測(cè)量	可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ?
控制系統(tǒng)	CYKY自研專業(yè)級(jí)控制系統(tǒng)
電源配置	直流電源數(shù)量	1臺(tái)
	輸出功率	≤500W
	輸出電壓	≤600V
	響應(yīng)時(shí)間	＜5ms
	射頻電源數(shù)量	1臺(tái)
	輸出功率	≤1000W
	功率穩(wěn)定度	≤5W
	測(cè)量精度	±0.5%
	測(cè)量速度	100~1000ms
	測(cè)量上限	50000

產(chǎn)品名稱：分體式單靶磁控鍍膜儀