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        產(chǎn)品詳情
        • 產(chǎn)品名稱:分體式單靶磁控鍍膜儀

        • 產(chǎn)品型號:CY-MSH270-I-RF-Q
        • 產(chǎn)品廠商:成越科儀
        • 產(chǎn)品文檔:
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        簡單介紹:
        本設(shè)備為單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實驗室SEM樣品制備。
        詳情介紹:
        本設(shè)備為單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實驗室SEM樣品制備。
        本套配置采用石英真空腔體,鍍膜過程全向可視,便于實驗的觀察記錄,腔體設(shè)計開啟方便,易于清理,十分適合實驗室使用。同時設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺,可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機采用模塊化設(shè)計,操作邏輯簡單,操作界面直觀,利于上手。
        設(shè)備的真空獲得系統(tǒng)采用兩級真空泵組,前級泵為大抽速機械泵,有效縮從常壓至低真空的時間,主泵為渦輪分子泵,抽速高,真空獲取速度更快。 整體真空獲得系統(tǒng)干凈快速。

         技術(shù)參數(shù):

        項目

        明細(xì)

        產(chǎn)品型號

        CY-MSH270-I-RF-Q

        供電電壓

        AC220V50Hz

        整機功率

        3KW

        系統(tǒng)真空

        5×10-4Pa

        樣品臺

        尺寸

        150mm

        加熱溫度

        500

        旋轉(zhuǎn)速度

        1-20r/min

        控溫精度

        ±1

        磁控濺射頭

        數(shù)量

        2英寸 x1

        冷卻方式

        水冷

        真空腔體

        腔體尺寸

        φ270mm X 200mm

        觀察窗口

        全向可視

        開啟方式

        頂蓋拆卸式

        腔體材料

        高純石英

        真空系統(tǒng)

        機械泵

        CY240

        抽氣接口

        KF16

        抽氣速率

        1.1L/s

        分子泵

        CY600

        抽氣接口

        KF40

        抽氣速率

        600L/s

        排氣接口

        KF40

        真空測量

        電阻規(guī)+電離規(guī)

        供電電源

        AC;220V 50/60Hz

        氣體控制

        1路質(zhì)量流量計用于控制Ar流量,量程為:200SCCM

        膜厚測量

        可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ?

        控制系統(tǒng)

        CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng)

        電源配置

        直流電源數(shù)量

        1

        輸出功率

        500W

        輸出電壓

        600V

        響應(yīng)時間

        5ms

        射頻電源數(shù)量

        1

        輸出功率

        1000W

        功率穩(wěn)定度

        5W

        測量精度

        ±0.5%

        測量速度

        100~1000ms

        測量上限

        50000


        豫公網(wǎng)安備 41019702002438號