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        產(chǎn)品詳情
        • 產(chǎn)品名稱:膜厚控制儀

        • 產(chǎn)品型號:CY-FDC-S
        • 產(chǎn)品廠商:成越科儀
        • 產(chǎn)品文檔:
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        簡單介紹:
        CY-FDC-S膜厚控制儀適用于電子束鍍膜、磁控濺射、電阻熱蒸發(fā)等各種鍍膜厚度控制場合。與蒸發(fā)源形成閉環(huán)控制,實時控制和顯示完整的鍍膜數(shù)據(jù),包括功率、速率、厚度和所用時間,可鍍制復(fù)雜的光學(xué)和金屬多層薄膜,通過觸摸屏控制實現(xiàn)各種操作,較傳統(tǒng)的按鍵操作更為直觀易懂。儀器編程極為方便,總共可設(shè)置8個膜系,每個膜系100層鍍膜層,為您多層鍍膜帶來極大方便。這些功能為您獲取鍍膜工藝提供良好 基礎(chǔ)。 FDC-S膜厚控制儀有以下幾個特殊功能:手動控制;人工終止鍍膜、晶振失效時按當(dāng)時功率鍍膜、晶振失效時切換晶片繼續(xù)(多晶片探頭)、中斷膜系、兩個源同時預(yù)熔、密碼保護(hù)等。
        詳情介紹:

        膜厚控制儀

        技術(shù)特點(diǎn):

        1. 全觸屏操作,簡單易用;

        2.32個膜系,每膜系50/100層自動鍍膜;

        3. 12路信號輸入/12路開關(guān)量輸出;

        4. 提供全自動、半自動、手動控制模式;

        5.可控制2個源,一套工作另一套預(yù)溶;

        技術(shù)參數(shù):

        CY-FDC-S控制儀

        晶振頻率

        6MHz(可選2.5M 3M 5M 9M晶體)

        顯示方式

        5”彩色觸屏+數(shù)碼管顯示速率和實厚

        操作方式

         觸摸屏

           

        00μ0000?-99μ9999?

        厚度顯示分辨率

        1?/s

        速率顯示分辨率

        0.1?/s

        鍍膜層數(shù)

        32膜系,每膜系50/100層;

        探頭數(shù)量

        A  B

        工具因子

        0.01-99.99

        時間顯示   

        00:00:00-23:59:59 H:M:S

        功率顯示

        099.9%

        預(yù)熔功率

         099%

        預(yù)鍍功率

        099.9%

        預(yù)熔時間/預(yù)鍍時間

        099:99  m:s

        預(yù)熔保溫時間

        /預(yù)鍍保溫時間

          099:99  m:s

        鍍膜速率(設(shè)定速率)

          0999.9?/s

        材料存儲

        257+自定義10

         

        RS232/RS485

        可控蒸發(fā)源

        2個,可一套工作另一套預(yù)溶

        輸出控制

        ±10V/5V/2.5V

        I/接口

        12路信號輸入/12路開關(guān)量輸出

        可控坩堝數(shù)量

        1-16

        鍍膜顯示

        速率曲線/數(shù)值

        鍍膜巡回次數(shù)

        每膜系50/100層自動

        機(jī)箱尺寸

                              480×280×89mm(2U 19”機(jī)箱)


        特殊功能:

        1、手動、半自動、自動3種鍍膜模式,滿足多種鍍膜機(jī)配置;

        2、人工停止鍍膜:鍍膜過程中人工終止鍍膜;

        3、手動控制:確定初次鍍膜工藝要求;

        4、中斷膜系:自動和半自動鍍膜中發(fā)現(xiàn)問題或出現(xiàn)故障,能停止鍍膜并能自動保存當(dāng)前狀態(tài),待故障**后,可從中斷膜系繼續(xù)鍍膜;

        5、自動或半自動鍍膜時,如晶振失效,可選擇按終止鍍膜、按當(dāng)前功率時間鍍膜、切換晶片繼續(xù)(多晶片探頭);

        6、兩個源同時預(yù)熔:當(dāng)前層鍍膜開始過程中,可選擇同時對第2層進(jìn)行預(yù)熔,以滿足對時間要求緊張的場合;

        7、密碼保護(hù):膜系和膜層參數(shù)密碼保護(hù)功能,保護(hù)工藝參數(shù)不被非工藝人員修改;

        8、鍍膜數(shù)據(jù)記錄:自動或半自動鍍膜時,系統(tǒng)可記錄每層膜的成膜時間、*終厚度速率參數(shù)。


        豫公網(wǎng)安備 41019702002438號