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產品名稱：UPS三靶磁控濺射鍍膜機
產品型號：CY-MSH325-III-RFRFRF-UPS-SS
產品廠商：成越科儀
產品文檔：

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簡單介紹：

三靶磁控濺射鍍膜機是我公司自主研發的高性價比的磁控濺射鍍膜設備。它是標準化，模塊化和可定制的。該裝置可用于制備單層或多層鐵電薄膜，導電膜，合金膜，半導體膜，陶瓷膜，介電膜，光學膜，氧化物膜，硬膜，PTFE膜等。與同類設備相比，這種三靶磁控濺射鍍膜機不僅用途廣泛，而且具有體積小，操作簡便的優點，是實驗室制備材料膜的理想設備。

詳情介紹：

技術參數

項目

明細

產品型號

CY-MSH325-III-RFRFRF-UPS-SS

供電電壓

AC220V，50Hz

整機功率

6KW

系統真空

≦5×10^-4Pa

樣品臺

外形尺寸

φ150mm

加熱溫度

≦700℃

控溫精度

±1℃

可調轉速

≦40rpm

磁控靶槍

靶材尺寸

直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm

冷卻模式

循環水冷

水流大小

不小于10L/Min

真空腔體

腔體尺寸

直徑φ325mm，高度385mm

腔體材質

SUU304不銹鋼

觀察窗口

直徑φ100mm

開啟方式

頂開式

氣體控制

1路質量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM

真空系統

配分子泵系統1套，氣體抽速600L/S

膜厚測量

可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ?

濺射電源

配射頻濺射電源,功率500W*3

控制系統

CYKY自研專業級控制系統

UPS

20KVA 16KW，延遲1小時

16節電池，容量38AH

設備尺寸

1090mm×900mm×1250mm

設備重量

350kg

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項目		明細
產品型號		CY-MSH325-III-RFRFRF-UPS-SS
供電電壓		AC220V，50Hz
整機功率		6KW
系統真空		≦5×10^-4Pa
樣品臺	外形尺寸	φ150mm
	加熱溫度	≦700℃
	控溫精度	±1℃
	可調轉速	≦40rpm
磁控靶槍	靶材尺寸	直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm
	冷卻模式	循環水冷
	水流大小	不小于10L/Min
真空腔體	腔體尺寸	直徑φ325mm，高度385mm
	腔體材質	SUU304不銹鋼
	觀察窗口	直徑φ100mm
	開啟方式	頂開式
氣體控制		1路質量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM
真空系統		配分子泵系統1套，氣體抽速600L/S
膜厚測量		可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ?
濺射電源		配射頻濺射電源,功率500W*3
控制系統		CYKY自研專業級控制系統
UPS		20KVA 16KW，延遲1小時 16節電池，容量38AH
設備尺寸		1090mm×900mm×1250mm
設備重量		350kg

產品名稱：UPS三靶磁控濺射鍍膜機