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晶圓級大尺寸二硫化鉬制備CVD設備（1150 三溫區 3路MFC）
本設備為基于CVD原理設計的晶圓級大尺寸二硫化鉬制備裝置。包括三溫區管式爐，特殊設計的爐管及配套氣路一組。該設備通過特殊設計的管路，能夠將反應氣體均勻的釋放于爐管，確保后端晶圓上的產物的一致性和均勻性。是二硫化鉬制備實驗的不二之選。
特點
1.特殊管路設計，反應氣體均勻的釋放
2.二硫化鉬制備不二之選
技術參數：
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產品型號 |
CY-O1200-120III-IC-3Z-MoS2 |
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爐管材質 |
高純石英 |
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爐管規格 |
外部大石英管 φ120mm x1000mm 內部小石英管 φ25mm x820mm x7根 |
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溫區長度 |
三溫區200mm+200mm+200mm |
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控溫精度 |
±1℃ |
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溫度曲線 |
三溫區獨立控溫，每個溫區均可設置30段時間溫度曲線 |
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工作溫度 |
0~1150℃ |
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升溫速率 |
≤10℃/min |
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進氣系統 |
三路質量流量計Ar氣0~500sccm N2氣0~200sccm H2氣0~200sccm 配有七路分氣、混氣氣路及混氣灌。 |
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爐管法蘭 |
不銹鋼水冷法蘭，配有KF16真空接口，機械式真空計及不銹鋼針閥 |
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供電要求 |
AC 220V 50Hz 4kW |
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控制方式 |
7英寸觸控屏 |
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真空泵 |
雙極旋片真空泵 |
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真空度 |
理論極限真空度10^-1Pa |
