產(chǎn)品分類
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設(shè)備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
真空立式淬火爐主體為開啟式立式管式爐，爐管上法蘭裝有吊鉤及爐塞，可手動松開吊鉤使懸掛的樣品落下；下法蘭與密封的液體容器通過φ100mm法蘭連接，液體容器內(nèi)可盛裝冰水或者冷油。真空立式淬火爐適合研究材料相變和微結(jié)構(gòu)性能
詳情介紹：
CY-O1200-Φ100-400-V-T-CH真空立式淬火爐
本品為立式淬火爐，主體為開啟式立式管式爐，爐管上法蘭裝有吊鉤及爐塞，可手動松開吊鉤使懸掛的樣品落下；下法蘭與密封的液體容器通過φ100mm法蘭連接，液體容器內(nèi)可盛裝冰水或者冷油。
特點
1. 管式爐采用高純氧化鋁作為爐膛材料，可提高熱效率和爐膛使用壽命。
2. 真空泵采用旋片式機械泵，可為真空淬火提供真空環(huán)境。
3. 液體容器采用雙層結(jié)構(gòu)，真空耐壓性能優(yōu)良，密封可靠，箱體通過頂絲固定，并裝有出液閥，便于取樣、換液。
4. 該設(shè)備適合研究材料相變和微結(jié)構(gòu)性能。
技術(shù)參數(shù)：
|
型號 |
CY-O1200-Φ100-400-V-T-CH |
|
電源要求 |
電壓：220V 50Hz 功率：3KW |
|
加熱元件 |
合金電阻絲 |
|
溫區(qū)長度 |
440mm，恒溫區(qū)200mm |
|
工作溫度 |
max1200℃（＜1h），連續(xù)工作時間1100℃ |
|
加熱速度 |
≤20℃/min，建議速率≤10℃/min |
|
熱電偶 |
K型熱電偶 |
|
控溫方式 |
PID控溫系統(tǒng)，控溫精度±1℃
可設(shè)置多段控溫程序，準(zhǔn)確控制加熱冷卻速率和恒溫時間 |
|
爐管規(guī)格 |
材質(zhì)：高純石英 尺寸：O.Dφ100mm I.D94mm X L.1000mm |
|
真空法蘭 |
上部法蘭：φ100真空不銹鋼法蘭配手動吊鉤開啟裝置 下部法蘭：φ100真空不銹鋼法蘭 ，配CF100法蘭轉(zhuǎn)接頭 |
| 淬火容器 |
雙側(cè)殼體，配出液閥 |
