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產品名稱：電子束蒸發鍍膜
產品型號：CY-EVP500-EB
產品廠商：成越科儀
產品文檔：

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簡單介紹：

該設備以電子束蒸發方式鍍膜設備，主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質襯底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜。

詳情介紹：

設備技術參數

使用條件

環境溫度5℃～40℃ 電源：三相380 V,功率：≤20 KW，水壓：≤2.5bar

真空室尺寸

蒸發室尺寸：φ500×H500(㎜)

電子槍

新型電子槍1套，6穴坩堝

樣品轉盤

樣品尺寸：≤φ150mm，樣品可旋轉，也可上下升降調節樣品到電子槍距離(樣品托形狀按用戶要求設計),加熱溫度≤500℃

系統真空度

極限真空

經12～24小時烘烤，連續抽氣≤5x10^-5Pa

抽氣速率

從大氣開始40分鐘內真空度≤5x10^-4Pa

系統漏率

整機漏率≤1×10^-8Pa.L/s 停泵關機12小時后，測量真空室真空度≤10Pa

抽真空系統

FB1200分子泵+機械泵(TRP-36)系統，并設置旁路抽氣

鍍膜監測

采用SQM160膜厚儀進行監測

鍍膜厚度

鍍膜厚度的不均勻度≤6%

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電子槍	新型電子槍1套，6穴坩堝
樣品轉盤	樣品尺寸：≤φ150mm，樣品可旋轉，也可上下升降調節樣品到電子槍距離(樣品托形狀按用戶要求設計),加熱溫度≤500℃
系統真空度	極限真空	經12～24小時烘烤，連續抽氣≤5x10^-5Pa
	抽氣速率	從大氣開始40分鐘內真空度≤5x10^-4Pa
	系統漏率	整機漏率≤1×10^-8Pa.L/s 停泵關機12小時后，測量真空室真空度≤10Pa
抽真空系統	FB1200分子泵+機械泵(TRP-36)系統，并設置旁路抽氣
鍍膜監測	采用SQM160膜厚儀進行監測
鍍膜厚度	鍍膜厚度的不均勻度≤6%

產品名稱：電子束蒸發鍍膜