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本設備的蒸發源共兩組，采取鎢舟蒸發源，水冷式銅電極，可*大支持300A的大電流，加熱溫度*高可達1800℃，可實現多種難熔金屬的蒸鍍。本設備采用一體化設計，腔體和電控部分左右分置，實現了水電分離，有力的保證了用戶的**。電控部分采用觸控屏和按鈕面板相結合的設計，真空系統、樣品臺等輔助功能通過觸控屏一鍵操作，通電蒸發、膜厚控制等通過面板獨立操作，在盡可能方便用戶的同時規避了誤操作的可能。該設備設計完善性能優越，是實驗室高精度蒸發鍍膜試驗的必備之選。
技術參數：
多源高真空蒸發鍍膜儀
型號
CY-EVH325-Ⅱ-HH-SS
樣品臺
尺寸
*大支持φ150mm樣品
高度
上下70mm可調
蒸發源
數量
鎢舟x2
真空腔體
腔體尺寸
φ325x600mm
觀察窗口
前置φ100mm
腔體材料
304不銹鋼
開啟方式
前開門式
膜厚控制
晶振式膜厚測量儀，可選多通道膜厚控制儀
真空系統
前級泵
雙極旋片泵
抽氣接口
KF16
次級泵
渦輪分子泵
抽氣接口
CF160
真空測量
電阻+電離 復合真空規
排氣速率
機械泵1.1L/s 分子泵 600L/s
極限真空
1.0E-5Pa
供電電源
AC 220V 50/60Hz
抽氣速率
旋片泵：1.1L/S
控制系統
PLC自動控制 操作界面：觸控屏+操作面板
其他
供電電壓
AC380V,50Hz
整機尺寸
1000mm X900mm X 1500mm
整機重量
350kg
整機功率
5kW
