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產(chǎn)品分類

產(chǎn)品列表

等離子體增強型化學(xué)氣相... 化學(xué)氣相沉積采用等離子體增強型化學(xué)氣相沉積技術(shù)，能夠利用高能量等離子體促進反應(yīng)過程，有效提升反應(yīng)速度，降低反應(yīng)溫度。適用...
CVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) CVD氣相沉積系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)和工程領(lǐng)域，用于制備各種功能性薄膜，如金屬薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳納米管等。...
PECVD氣相沉積 PECVD氣相沉積在超大規(guī)模集成電路、光電器件、MEMS等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用
雙溫區(qū)CVD化學(xué)氣相沉... CVD（化學(xué)氣相沉積）氣相沉積系統(tǒng)是一種常用的薄膜制備技術(shù)，通過在高溫下將氣體反應(yīng)物質(zhì)與基底表面反應(yīng)，形成薄膜
三溫區(qū)PECVD石墨烯... 三溫區(qū)PECVD廣泛用于石墨烯制備，顆粒包覆等科學(xué)實驗上
熱陰極直流等離子體化學(xué)... 熱陰極直流等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備（DCCVD）是在常規(guī)冷陰極輝光放電基礎(chǔ)上發(fā)展起來的，主要用于金剛石單晶或多晶膜的沉積...
卷對卷PECVD石墨烯... 卷對卷PECVD石墨烯制備設(shè)備主要應(yīng)用于計算機和智能手機屏幕，超輕、柔性的太陽能電池，以及新型的發(fā)光設(shè)備和其他薄膜電子產(chǎn)...
PECVD-R?旋轉(zhuǎn)等... 本產(chǎn)品為PECVD-R?旋轉(zhuǎn)等離子加強CVD設(shè)備。PECVD-R?旋轉(zhuǎn)等離子加強CVD設(shè)備十分適合在氣氛保護的環(huán)境下連續(xù)...
PE-HPCVD等離子... PE-HPCVD等離子增強物理化學(xué)氣相沉積由一臺雙溫區(qū)管式爐，一套鎢絲蒸發(fā)源，一套等離子發(fā)生裝置以及一套質(zhì)量流量計組成。...
PECVD鍍膜儀 CY-PECVD-450化學(xué)氣相沉積采用等離子體增強型化學(xué)氣相沉積技術(shù)，能夠利用高能量等離子體促進反應(yīng)過程，有效提升反應(yīng)...
單溫區(qū)旋轉(zhuǎn)PECVD石... 單溫區(qū)旋轉(zhuǎn)PECVD，安裝有真空自動投料器，爐管尾部預(yù)留KF40接口可以連接收料罐。投料器采用螺桿進料，可以以額定的速率...
卷對卷式PECVD 卷對卷式PECVD是等離子增強型化學(xué)氣相沉積設(shè)備（PECVD），并加裝了收放卷裝置。本設(shè)備可用于線材的連續(xù)化熱處理工藝中...
等離子增強CVD系統(tǒng) 等離子增強CVD系統(tǒng)由等離子發(fā)生器，三溫區(qū)管式爐、單溫區(qū)管式爐、射頻電源、真空系統(tǒng)組成。等離子增強CVD系統(tǒng)為了使化學(xué)反...
等離子增強型CVD系統(tǒng) CY-PECVD50R-1200-Q是一款等離子增強型CVD系統(tǒng)。此系統(tǒng)由150W射頻電源、單溫區(qū)管式爐、3通道質(zhì)子流量...
真空高溫超聲波熱解噴涂噴霧熱解是通過在加熱的表面上噴射溶液來沉積薄膜的過程，其中組分反應(yīng)形成化合物。該方法對于氧化物的沉積特別有用，并且長期以...
高溫超聲波熱解噴涂超聲波熱解噴涂此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物，而且在制備透明電極的應(yīng)用中已有相當長的歷史?，F(xiàn)在這種方法在制備鈣鈦礦...
自動超聲波熱解噴涂自動超聲波熱解噴涂制膜法特別適用于沉積氧化物，而且在制備透明電極的應(yīng)用中已有相當長的歷史?，F(xiàn)在這種方法在制備鈣鈦礦型太陽...
高通量超聲波熱解噴涂高通量超聲波熱解噴涂是通過在加熱的表面上噴涂溶液來沉積薄膜的過程，在該表面上，成分發(fā)生反應(yīng)以形成化合物,用于電池電極和鈣...
超聲波熱解噴涂機噴霧熱解制膜法，是將溶液霧化后噴涂到加熱的基座上，然后在基底上得到想要的物質(zhì)結(jié)構(gòu)。本設(shè)備是由我公司自主研發(fā)的一款超聲噴霧...
桌面型超聲波熱解噴涂機超聲波熱解噴涂機是由我公司自主研發(fā)的一款超聲噴霧熱解設(shè)備，超聲波熱解噴涂機配有40KHz 130W的超聲波霧化器、PID...

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