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        磁控濺射鍍膜儀
        • 桌面型下置靶不銹鋼腔體... 本設(shè)備為桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用...
        • 桌面型射頻磁控濺射鍍膜... 本設(shè)備為射頻磁控濺射鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品...
        • 桌面型偏壓?jiǎn)伟写趴貫R射... 本設(shè)備為帶偏壓的桌面型單靶磁控鍍膜儀,可用于一般金屬薄膜的制備。設(shè)備同時(shí)配有偏壓電源,可以用來(lái)進(jìn)行進(jìn)行濺射前的等離子清洗...
        • 桌面型不銹鋼腔體單靶磁... 本設(shè)備為桌面型不銹鋼腔體單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)...
        • 桌面型單靶磁控濺射鍍膜... 本設(shè)備為單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
        • 磁控濺射鍍膜儀帶振動(dòng)樣... 帶振動(dòng)樣品臺(tái)的三靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有三個(gè)靶位的實(shí)驗(yàn)室專用于處理粉末及顆粒樣品的鍍膜儀,設(shè)備配有兩臺(tái)直流電源...
        • 桌面型石英腔體單靶磁控... 本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過(guò)小型化設(shè)計(jì),將設(shè)備外形限制在了桌面級(jí)別,大大減少了安裝場(chǎng)地需求。設(shè)備配有一個(gè)直流電...
        • 桌面型偏置靶單靶磁控鍍... 單靶磁控鍍膜儀配有一個(gè)直流電源,可用于金屬及其他導(dǎo)電材料的濺射。單靶磁控鍍膜儀真空系統(tǒng)采用渦輪分子泵組,抽氣速度快,極限...
        • 行星式單靶磁控鍍膜儀 本設(shè)備為桌面型行星式單靶磁控鍍膜儀,腔體下半部為不銹鋼機(jī)構(gòu),上部為高純石英,兼顧了真空性能和容納復(fù)雜樣品臺(tái)的功能型。設(shè)備...
        • 桌面型靶下置型磁控鍍膜... 本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過(guò)小型化設(shè)計(jì),將設(shè)備外形限制在了桌面級(jí)別,大大減少了安裝場(chǎng)地需求。設(shè)備配有一個(gè)直流電...
        • 傾斜樣品臺(tái)式單靶磁控鍍... 本設(shè)備為傾斜樣品臺(tái)式單靶磁控鍍膜儀,樣品臺(tái)與靶面的角度可調(diào),可用于制作特定生長(zhǎng)角度的薄膜。設(shè)備外形為桌面級(jí)別,大大減少了...
        • 桌面型不銹鋼腔體雙靶磁... 雙靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
        • ?桌面型雙靶直流磁控鍍... ?桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,尤其是實(shí)驗(yàn)室SEM樣品...
        • 雙靶DCRF磁控濺射鍍... 雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)采用靶下置樣品臺(tái)在上方的布局。雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)兩個(gè)靶位,直流...
        • ?雙靶DCRF磁控濺射... ?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(往復(fù)樣品臺(tái))配有一臺(tái)直流電源,一臺(tái)射頻電源,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄...
        • 桌面型單靶磁控鍍膜儀(... 本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過(guò)小型化設(shè)計(jì),將設(shè)備外形限制在了桌面級(jí)別,大大減少了安裝場(chǎng)地需求。設(shè)備配有一個(gè)高性能...
        • 桌面型單靶磁控鍍膜儀 本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過(guò)小型化設(shè)計(jì),將設(shè)備外形限制在了桌面級(jí)別,大大減少了安裝場(chǎng)地需求。設(shè)備配有一個(gè)直流電...
        • UPS三靶磁控濺射鍍膜... 三靶磁控濺射鍍膜機(jī)是我公司自主研發(fā)的高性價(jià)比的磁控濺射鍍膜設(shè)備。 它是標(biāo)準(zhǔn)化,模塊化和可定制的。 該裝置可用于制備單層...
        • 桌面型雙靶磁控鍍膜儀 CY-MSP210S-RFD桌面型雙靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過(guò)小型化設(shè)計(jì),在保留高真空不銹鋼腔體的同時(shí),精簡(jiǎn)了其他機(jī)構(gòu),將設(shè)...
        • 往復(fù)樣品臺(tái)單靶磁控鍍膜... 桌面型單靶磁控鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有小型化、標(biāo)準(zhǔn)化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸、2英寸可以...

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