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三靶磁控濺射鍍膜儀雙電... 三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英...
帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)...
分體式單靶磁控鍍膜儀本設(shè)備為單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實驗室SEM樣品制備...
雙靶磁控濺射鍍膜儀雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)...
磁控濺射/真空蒸發(fā)復(fù)合... 磁控濺射/真空蒸發(fā)復(fù)合型鍍膜設(shè)備將磁控濺射技術(shù)和真空蒸發(fā)技術(shù)結(jié)合在同一鍍膜設(shè)備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子濺...
三靶磁控濺射鍍膜儀(直... 三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)我公司研發(fā)的實驗室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)可選配...
三靶磁控濺射鍍膜儀(直... 三靶磁控濺射鍍膜儀(直流)我公司研發(fā)的實驗室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀(直流)可選配直流電源功率...
三靶磁控濺射鍍膜儀(射... 三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)我公司研發(fā)的實驗室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)可選配源功率從50...
雙靶磁控濺射鍍膜儀（雙... 雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英...
雙靶磁控濺射鍍膜儀(直... 雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)典型的高速低溫濺射實驗室專用鍍膜儀，雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)可選配直流電源和射頻...
雙靶磁控濺射鍍膜儀(射... 雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)高速低溫濺射實驗室專用鍍膜儀，雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)可選配功率從500W-1000W不等的...
雙靶磁控濺射鍍膜儀(直... 雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流)高速低溫濺射。雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流)可選配功率從500W-1000W不等的直流電源。
單靶磁控濺射鍍膜儀（射... 單靶磁控濺射鍍膜儀（射頻）我公司研發(fā)的實驗室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。單靶磁控濺射鍍膜儀（射頻）可選配500W-1...
單靶磁控濺射鍍膜儀(直... 單靶磁控濺射鍍膜儀(直流)我公司研發(fā)的實驗室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。單靶磁控濺射鍍膜儀(直流)可選配功率從500...
小型單靶磁控濺射鍍膜儀小型單靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有小型化、標(biāo)準(zhǔn)化的特點。磁控靶有1英寸、2英寸可...
真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng) 真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶（三個靶）、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真...
可程控磁控濺射鍍膜儀可程控磁控濺射鍍膜儀為單腔室結(jié)構(gòu)，主要由濺射真空室、磁控濺射靶、離子轟擊、公轉(zhuǎn)基片臺、光加熱系統(tǒng)、濺射電源、工作氣路、真...
高真空磁控濺射鍍膜儀高真空磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱公轉(zhuǎn)臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等...
單室磁控濺射鍍膜儀單室磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組...
CY-in-line磁... CY-in-line磁控濺射系統(tǒng)主要由進(jìn)樣室、濺射室、出樣室、基片傳遞機構(gòu)、抽氣及真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、安裝...

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